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在半导体生产中,光刻机是核心设备,不仅“jin”决定「ding」了芯片【pian】制造的《de》工艺水平,也「ye」是耗时《shi》最多、成〖cheng〗本最高的一步,目前先进的7nm、5nm及接下来的3nm都需要EUV光刻机,一台售价将近10亿人民币,目前还是供不应求。

EUV光【guang】刻机目前只有荷兰ASML公(gong)司可以生产,他们的产能将决定全球《qiu》先‘xian’进工艺扩张的速度,日前ASML公司「si」高级副‘fu’总裁Christophe Fouquet在高盛“sheng”会“hui”议上确认,将增加EUV光刻{ke}机的产能。

他们原本“ben”预计在2025年〖nian〗的时候EUV年产能是70台,现在决定提升到每年 nian[90台,有『you』助于缓解「jie」产能不‘bu’足的问题。

今年Q2季度(du)还「huan」没结束,ASML公司就收到了超过100台EUV光刻机的订单「dan」,这已经大大超过了他们 men[的产能「neng」,今年(nian)该公司计【ji】划出货EUV光刻{ke}机不过55台,只(zhi)能满足一半的订单量,客户都要排队等待「dai」。

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